order_bg

hírek

Az ostya hátcsiszolási folyamatának bemutatása

Az ostya hátcsiszolási folyamatának bemutatása

 

A front-end feldolgozáson átesett és az ostyateszten átesett ostyák a Back Grinding segítségével megkezdik a háttérfeldolgozást.A visszacsiszolás az ostya hátoldalának vékonyításának folyamata, melynek célja nem csak az ostya vastagságának csökkentése, hanem az elülső és hátsó folyamatok összekapcsolása is a két folyamat közötti problémák megoldása érdekében.Minél vékonyabb a félvezető chip, annál több lapka rakható egymásra, és annál nagyobb az integráció.Azonban minél magasabb az integráció, annál alacsonyabb a termék teljesítménye.Ezért ellentmondás van az integráció és a termékteljesítmény javítása között.Ezért az ostya vastagságát meghatározó csiszolási módszer az egyik kulcsa a félvezető chipek költségének csökkentésének és a termékminőség meghatározásának.

1. A visszacsiszolás célja

Az ostyákból készült félvezetők gyártása során a lapkák megjelenése folyamatosan változik.Először az ostyagyártási folyamat során az ostya szélét és felületét polírozzák, ez az eljárás általában az ostya mindkét oldalát csiszolja.Az elülső folyamat befejezése után elindíthatja a hátsó csiszolási folyamatot, amely csak az ostya hátát csiszolja, amely eltávolíthatja a kémiai szennyeződést az előtérben, és csökkentheti a chip vastagságát, ami nagyon alkalmas IC-kártyákra vagy mobileszközökre szerelt vékony chipek gyártásához.Ezen túlmenően ennek az eljárásnak az az előnye, hogy csökkenti az ellenállást, csökkenti az energiafogyasztást, növeli a hővezető képességet és gyorsan elvezeti a hőt az ostya hátulján.Ugyanakkor, mivel az ostya vékony, könnyen eltörheti vagy megvetemedheti külső erők hatására, ami megnehezíti a feldolgozási lépést.

2. Hátcsiszolás (Back Grinding) részletes folyamat

A visszacsiszolás a következő három lépésre osztható: először ragasszuk fel a védőszalagos laminálást az ostyára;Másodszor, darálja meg az ostya hátát;Harmadszor, mielőtt leválasztja a chipet az ostyáról, az ostyát a szalagot védő ostyatartóra kell helyezni.Az ostyafoltozási folyamat az elválasztás előkészítési szakaszaForgács(a forgács vágása), ezért a vágási folyamatba is be lehet vonni.Az utóbbi években a forgács vékonyodásával a folyamatok sorrendje is változhat, és a folyamat lépései is finomodtak.

3. Szalagos laminálási eljárás az ostyavédelem érdekében

A hátsó csiszolás első lépése a bevonat.Ez egy bevonási eljárás, amely szalagot ragaszt az ostya elejére.A hátoldalon való csiszoláskor a szilíciumvegyületek szétterülnek, és az ostya is megrepedhet vagy megvetemedhet a külső erők hatására, és minél nagyobb az ostya felülete, annál fogékonyabb erre a jelenségre.Ezért a hátlap csiszolása előtt egy vékony ultraibolya (UV) kék fóliát rögzítenek az ostya védelmére.

A fólia felhordásakor, hogy az ostya és a szalag között ne legyen rés vagy légbuborék, növelni kell a tapadóerőt.A hátoldal csiszolása után azonban az ostyán lévő szalagot ultraibolya fénnyel kell besugározni, hogy csökkentse a tapadóerőt.A csupaszítás után szalagmaradvány nem maradhat az ostya felületén.Néha az eljárás gyenge tapadást használ, és hajlamos a buborékok nem ultraibolya sugárzást csökkentő membránkezelésére, bár sok hátránya van, de olcsó.Emellett az UV-csökkentő membránoknál kétszer vastagabb Bump fóliákat is használnak, amelyek a jövőben várhatóan egyre gyakrabban kerülnek felhasználásra.

 

4. Az ostya vastagsága fordítottan arányos a chipcsomaggal

Az ostya vastagsága a hátoldali csiszolás után általában 800-700 µm-ről 80-70 µm-re csökken.A tizedére vékonyított ostyák négy-hat réteget rakhatnak egymásra.A közelmúltban az ostyákat akár 20 milliméteresre is vékonyítják két csiszoló eljárással, így 16-32 rétegre, többrétegű félvezető szerkezetre, többlapkás csomagként (MCP) ismerték.Ebben az esetben a többrétegű használat ellenére a kész csomag teljes magassága nem haladhat meg egy bizonyos vastagságot, ezért mindig vékonyabb őrlési ostyákra törekednek.Minél vékonyabb az ostya, annál több a hiba, és annál nehezebb a következő folyamat.Ezért a probléma megoldásához fejlett technológiára van szükség.

5. A visszacsiszolási módszer megváltoztatása

Az ostyák lehető legvékonyabbra vágásával a feldolgozási technikák korlátainak leküzdése érdekében a hátsó csiszolási technológia tovább fejlődik.Az 50 vagy nagyobb vastagságú közönséges ostyák esetében a hátoldali köszörülés három lépésből áll: egy durva köszörülésből, majd egy finom csiszolásból, ahol az ostyát két őrlés után vágják és polírozzák.Ezen a ponton a kémiai mechanikai polírozáshoz (CMP) hasonlóan általában iszapot és ionmentes vizet visznek fel a polírozó párna és az ostya közé.Ez a polírozás csökkentheti az ostya és a polírozópárna közötti súrlódást, és fényessé teheti a felületet.Ha az ostya vastagabb, Super Fine Grinding használható, de minél vékonyabb az ostya, annál több polírozásra van szükség.

Ha az ostya elvékonyodik, akkor a vágási folyamat során hajlamos külső hibákra.Ezért, ha az ostya vastagsága 50 µm vagy kevesebb, a folyamat sorrendje módosítható.Ekkor a DBG (Dicing Before Grinding) módszert alkalmazzák, vagyis az ostyát az első őrlés előtt félbevágják.A chip biztonságosan elválasztható az ostyától a felkockázás, őrlés és szeletelés sorrendjében.Ezenkívül léteznek speciális csiszolási eljárások, amelyek erős üveglapot használnak, hogy megakadályozzák az ostya eltörését.

Az elektromos készülékek miniatürizálásába való beépítés iránti növekvő igény miatt a hátoldali csiszolási technológiának nemcsak le kell győznie korlátait, hanem tovább kell fejlődnie.Ugyanakkor nem csak az ostya hibaproblémáját kell megoldani, hanem fel kell készülni a későbbi folyamat során esetlegesen felmerülő új problémákra is.Ezeknek a problémáknak a megoldásához szükséges lehetkapcsolóa folyamat sorrendjét, vagy bevezetni az alkalmazott kémiai maratási technológiátfélvezetőfront-end folyamatot, és teljesen új feldolgozási módszereket dolgozzon ki.A nagy felületű ostyák eredendő hibáinak megoldása érdekében különféle őrlési módszereket kutatnak.Emellett kutatások folynak az ostyák őrlése után keletkező szilícium salak újrahasznosítására vonatkozóan.

 


Feladás időpontja: 2023. július 14